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相關文章德國 retsch半導體行星式球磨儀PM100 行星球磨機 PM 100 是一款功能強大的臺式機型,配備單個研磨站和易于使用的配重,可補償高達 8 公斤的質量。它允許每批研磨多達 220 毫升的樣品材料。行星球磨機的極的高離心力可產生非常高的粉碎能量,因此研磨時間很短。PM100 幾乎適用于所有質量控制過程對純度、速度、細度和可重復性要求最高的行業(yè)。
更新時間:2024-08-24德國 retsch半導體盤式振動研磨儀RS300 在準備用于光譜分析的樣品時,沒有哪臺研磨機的速度能超越振動盤式研磨機。RETSCH 的振動盤式研磨機 RS 300 適用于快速、無損且可重復地研磨中等硬度、脆性和纖維材料。 由于堅固的萬向驅動軸可將研磨罐設置為 3D 運動,RS 300 可承受高達 30 公斤的研磨套件重量。封閉式研磨系統(tǒng)可確保樣品的完整處理。 研磨套件有多種尺寸和材料可供選擇
更新時間:2024-08-24日本microtec半導體絲網(wǎng)印刷機 MT-80SP 對應了各類硅片尺寸的承載盒對承載盒型的全自動硅片用絲網(wǎng)印刷機。 設備結構為:將承載盒(對應各類規(guī)格)裝載至上料部,通過水平搬送機械臂自動取出后,進行預對位(缺口檢測)并印刷,之后再次收納至承載盒。可高精度全自動地進行焊接凸點及聚乙烯覆蓋等的印刷??蛇x裝進行FFU的設置。
更新時間:2024-08-24日本 microscope3個同時視野 變焦顯微鏡YS05T 無需切換光路,3個同時視場,配備Ultra C接口 1.配備 1 個 C 接口的鏡筒,非常適合連接數(shù)碼相機和 iPhone。 2.同時三視新趨勢 3.標準 Ultra C 安裝座,具有齊焦/軸調節(jié)功能 4.總放大倍率為 6.7 倍至 45 倍的變焦體視顯微鏡
更新時間:2024-08-23日本 microscope雙目變倍體視顯微鏡MyDesk Zunta 2 總放大倍數(shù)7x~45x 支架臂型(還包括標準桿架) 照明帶 LED 環(huán)形照明和電池供電
更新時間:2024-08-23日本nykk在線露點儀6020 由于新軟件的開發(fā),露點計 6020 具有高度的靈活性和各種可自由配置的菜單驅動選項,允許在各種應用中連續(xù)監(jiān)測露點測量,從高純氣體到該露點計適用于干燥空氣、天然氣等。此外,內置微處理器可進行精確的校準調整,傳感器檢測部分提供出色的靈敏度、重復性和響應速度,使其成為高度可靠的露點計。
更新時間:2024-08-23日本nykk 便攜式露點儀SADPmini 帶 PPM 和 PPB 顯示的便攜式露點計 最新的便攜式露點儀 SADPmini 可讓您快速輕松地測量氣體和干燥空氣中的水分(露點)。 測量頭與傳統(tǒng)SHAW露點儀/SADP型一樣,配備自動干燥室,測量完成后使傳感器保持干燥狀態(tài)并處于待機狀態(tài),以便隨時進行露點測量。
更新時間:2024-08-23日本 aandd天平隔振臺AD-1671 在有振動的環(huán)境中使用分析電子天平時,我們建議使用隔振臺。 ?機身尺寸:460mm x 400mm x 71mm ?體重:約27公斤 ?負載能力:約40公斤 ?材質:天然花崗巖 ?注意: 不可能完的全消除所有振動。
更新時間:2024-08-22日本 rexxam清洗?干燥裝置 臺式型SCRD4 清洗?干燥裝置是使用不會產生毛細管力?表面張力的超臨界流體,可使超微細構件得到清洗?干燥且不會造成變形或破壞。 用途 1.連采用IPA(異丙醇)干燥都會受損的、具有超微細結構的晶圓。 2.具有縱橫比較大的MEMS等微細結構的晶圓。 3.硅氣凝膠那樣具有納米量級極細空間的材料制備。 4.加入添加劑、抗蝕劑等的溶解去除、剝離等。
更新時間:2024-08-22日本 icomes微管泵系統(tǒng)MTIC05‐01 1.無需工具即可安裝和拆卸的簡單設計 磚螺柱結構無需使用工具即可輕松組裝和拆卸零件。泵不僅可以無菌設置,而且可以定制各種部件以適應研究應用,例如多個泵盒。我們將根據(jù)您的使用目的幫助您構建最佳且低成本的精密流路系統(tǒng)。 2.內部通道設計減少細胞損傷
更新時間:2024-08-22